產品中心
Product Center
產品簡介
持久型小型濺射儀，石英玻璃腔體，濺射距離可調節，外接水冷機可持久濺射，觸摸屏控制，濺射時間工藝記憶儲存。
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
持久型小型濺射儀
一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，
磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
需要鍍膜的樣品
1、電子束敏感的樣品:
主要包括生物樣品，塑料樣品等。SEM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料，那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結構。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用，防止此類損傷；
2、非導電的樣品:
由于樣品不導電，其表 面帶有“電子陷阱"， 這種表面上的電子積累 被稱為“充電"。為了 消除荷電效應，可在樣 品表面鍍一層金屬導電 層，鍍層作為一個導電 通道，將充電電子從材 料表面轉移走，消除荷 電效應。在掃描電鏡成 像時，濺射材料增加信 噪比，從而獲得更好的成像質量。
持久型小型濺射儀廠家供應技術參數；
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
當前位置：
上一個：
返回列表
